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微弧氧化膜層的形成過程是怎樣的?_蘇州粵輝煌專注微弧氧化設(shè)備整體解決方案

微弧氧化膜層的形成過程是怎樣的?

發(fā)布時間:2022-07-05閱讀量:999

       微弧氧化技術(shù)(MAO)它是在陽極氧化的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一項新技術(shù)。它是在含有特定離子的電解質(zhì)中,通過弧光放電處理和電化學(xué)氧化的共同作用,在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料的表面原位產(chǎn)生一層與基體結(jié)合良好的陶瓷層的表面處理技術(shù)。膜層具有耐腐蝕性高、硬度高、耐磨性好、阻抗高、隔熱性好等特點。

       當微弧氧化膜層生長時,首先在基體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng),產(chǎn)生一層陽極氧化膜。當反應(yīng)電壓增加時,膜厚度會進一步增加,電壓會繼續(xù)增加,厚度會相應(yīng)增加。但當反應(yīng)電壓增加到一定程度時,膜層會因無法承受工作電壓而放電和擊穿,產(chǎn)生等離子體放電。反應(yīng)的高溫會熔化膜層,氧化物會在富氧環(huán)境中形成。同時,因為它在電解質(zhì)中,熔融物瞬間冷凝,在基體表面產(chǎn)生一層陶瓷。陶瓷膜的產(chǎn)生會導(dǎo)致工作電壓進一步升高,膜層再次被擊穿,膜層厚度進一步增加,膜層反復(fù)生長。

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