鎂合金微弧氧化技術多用在鎂合金材料表面處理，鎂合金微弧氧化工藝流程如下：微弧氧化清洗、封閉干燥成品清洗、化學除油(配合超聲波除油效果較好)檢驗。
影響鎂合金微弧氧化工藝效果的因素：
①合金材料和表面狀態(tài)的影響：微弧氧化技術對鎂工件的合金成分要求不高，對工件的表面狀態(tài)要求不高，一般不需要表面拋光。對于粗糙度高的工件，微弧氧化后表面修復變得更加均勻光滑；對于粗糙度低的工件，微弧氧化后表面粗糙度增加。
②電解質溶液及其成分的影響：微弧氧化電解質是獲得合格膜的技術關鍵。不同的電解質成分和氧化工藝參數，膜的性質也不同。
③氧化電壓和電流密度的影響：微弧氧化電壓和電流密度的控制對獲得合格的膜也至關重要。不同的材料和不同的氧化電解質具有不同的微弧放電擊穿電壓（擊穿電壓：工件表面剛剛產生微弧放電的電解電壓）。
④溫度和攪拌的影響：與傳統(tǒng)的陽極氧化不同，微弧氧化電解質的溫度允許范圍更廣，可以在10～60℃在條件下進行。雖然微弧氧化工件表面有大量氣體沉淀，對電解質有一定的攪拌作用，但一般需要配備電解質攪拌裝置，以保證氧化溫度和系統(tǒng)成分的均勻性。
⑤微弧氧化時間的影響：微弧氧化時間一般控制在10～60min。氧化時間越長，膜的致密性越好，但粗糙度也越高。
⑥陰極材料：微弧氧化陰極材料為碳鋼、不銹鋼或鎳。
⑦膜的后續(xù)處理：鎂基工件可直接使用，無需微弧氧化，也可封閉、油漆、機械拋光，進一步提高膜的裝飾性。
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