微弧氧化是指在普通陽極氧化的基礎上，利用弧光放電增強并激活在陽極上發(fā)生的反應，從而在以鋁、鈦、鎂金屬及其合金為材料的工件表面形成優(yōu)質的強化陶瓷膜的方法，是通過用專用的微弧氧化電源在工件上施加電壓，使工件表面的金屬與電解質溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜，達到工件表面強化的目的。
微弧氧化技術的突出特點:
(1)大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在1000至2000HV，最高可達3000HV，可與硬質合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度;
(2)良好的耐磨損性能;
(3)良好的耐熱性及抗腐蝕性。這從根本上克服了鋁、鎂、鈦合金材料在應用中的缺點，因此該技術有廣闊的應用前景;
(4)有良好的絕緣性能，絕緣電阻可達100MΩ。
(5)溶液為環(huán)保型，符合環(huán)保排放要求。
(6)工藝穩(wěn)定可靠。設備簡單;
(7)反應在常溫下進行，操作方便，易于掌握。
(8)基體原位生長陶瓷膜，結合牢固,陶瓷膜致密均勻。
微弧氧化設備特點:
1、采用先進的開關電源技術，具有體積小、效率高、運行穩(wěn)定、噪聲低，對于電網(wǎng)干擾小等優(yōu)點。
2、直流/脈沖/變極性等多輸出特性。
3、多種工作模式，參數(shù)設定精細、控制準確，調節(jié)范圍寬。4、工藝過程采用DSP自動控制。5、多參數(shù)監(jiān)控功能，故障自診斷與保護。6、能效高，是可控硅產品的20%。
